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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆制做厂座落华北区县,大部分的生产加工8厘米光电器件晶圆,日访问量生活污水释放准则量约800吨。因为的生产加工期间中利用很大氢氧化钠开始晶圆蚀刻,引致生活污一般的水都氟化物密度多达200-300mg/L,远超国释放准则准则(10mg/L下类)。 废水处理方法含量及源头 工业废水基本来源以下三个部分: 晶圆蚀刻工步 :含高酸度氟化物(HF)、氯化铵及极少量血本属 化学式自动化设备抛光剂(CMP)污水 :含纳米级级硅顆粒、设计络合剂 设备擦拭废水处理方法 :含异丙醇、氟化物等可挥发物 除理加工制作工艺 环节 用到"化学式奠定+混凝土奠定+程度滤过"三级视频加工平台: 七级正确处理 :加药氯化钙和氢氧化物钙,生成氟化钙滤渣,氟化物去掉率达85% 一级进行处理 :放入PAC(配位聚铝)和PAM(高分子聚乙烯酰胺),剔除电解质溶液态污染问题物 一级整理 :依据多材质滤出器和灵活性碳活性炭吸附,水流氟化物溶液浓度安全在8mg/L以内 重要机械比如:pH定时调控控制系统、斜管沉淀自己池、板框刮刀离心机(淤泥脱水处理)。 决定效率 工作运转一年监测系统数剧表示: 氟化物评均氨水浓度:7.2mg/L(最低部委要求) COD快速清理率:92% 飞灰水分含量率:≤65% 年出售氟化钙副软件约150吨,控制市场化回收利用

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